Elektrický odpor je způsoben elektrony rozptylu off navzájem a pryč stranách drátu . Některé materiály vykazují žádný elektrický odpor pod kritickou teplotou přechodu , a tyto materiály jsou známé jako supravodičů . Veškerý materiál, jako je supravodič může být vzorovaný do určitého tvaru , jako je kruhové dráze , pomocí proces známý jako foto – litografie . Tento proces zahrnuje zářící ultrafialového světla přes speciálně konstruované masky -deska , která se chová jako šablony – za účelem generovánípattern.Things budete potřebovat
Spin lakovací
S1813 foto – odolat
S1813 developer
maska aligner
maska s kruhové dráze
odpařování komory
niob pelety
Topná deska
Si substrátu
Zobrazit další instrukce
1
Umístěte křemíkovém substrátu na spin – coateru sklíčidla . Zvolte rychlost odstřeďování 3000 otáček za minutu , a doba odstřeďování 2 minuty . Umístěte několik kapek S1813 na podklad a začít točit .
2
Zapněte varnou deskou a nastavte ji na 110 stupňů Celsia ( 230 stupňů Fahrenheita ) . Počkejte, ažvarná deska dosáhne nastavené hodnoty teploty . Vzorek se umístí na topnou desku po dobu 2 minut . Vyjměte vzorek a nechte ji vychladnout .
3
Vzorek se umístí do masky seřizovací a umístěte masku s kruhové dráze do masky seřizovací nad vzorkem . Vystavit vzorek ultrafialovým světlem po dobu 2 sekund .
4
Vzorek se umístí do S1813 vývojáře po dobu 30 sekund . Developer odstraňuje exponovaných částí vzorku , tvořící kruhovou dráhu , která supravodivý materiál může být ukládán do .
5
Vzorek se umístí do výparníku , a umístit několik pelety z niobu do odpařovací kelímku . Se odpaří 100 nanometrů niobu . Vyjměte vzorek z odpařovací komory . Vzorek se umístí do acetonu . Aceton odstraní všechny části fotografie , bránit odchodu supravodivých kruhové dráze . Vzorek je kompletní . Niob je supravodivé pod 9,3 Kelvina .